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    1. 清洗模块
      QW系列在位清洗泵站
      用途
      该机主要用于制药工业固体制剂生产过程中,与湿法混合制粒机沸腾制粒机、包衣机等设备配套使用,以实现其在位清洗功能。同时在制药、化工、食品等行业中广泛使用。
      原理
      该机由泵站、清洗系统、控制系统等组成。工作时,将清洗组件对接到配套设备的各清洗点接口,做好清洗的准备。按工艺要求设定清洗程序,确认后按设定的程序清洗设备腔体内表面;还可外接高压水枪,在清洗区域由人工清洗设备外表面和辅件。清洗过的设备经过干燥处理,以备待用。
      特点
      该机是我司广泛吸收、消化国外先进技术,结合国情研发成功的新机型,结构合理,性能稳定,操作方便,可以一机多用,减轻劳动强度,优化了生产工艺,完全符合药品生产的GMP要求。
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